不銹鋼表面浮雕精飾是活化腐蝕與多層電鍍的綜合加工,表面浮雕精飾后的金屬制品圖案清晰,光彩絢麗奪目,層次手感柔和。立體感強。富有金屬鞋刻效果。首先在制筆行業得到大批量應用,收到巨大的經濟效益。


消光鍍鉻底(di)色鍍金或消光鍍鉻底(di)色銀光浮雕工藝(yi)流程(cheng)如下:


1. 機械磨光(guang)、拋光(guang)


  可按不銹鋼(gang)拋(pao)光工藝進行。


  ①. 拋光(guang)表面(mian)要求:無麻點、硬絲路、沖拉模具(ju)痕及飛邊(bian)。


  ②. 金剛砂(sha):磨光(guang)按表(biao)面光(guang)潔度需要選用300=、400#、500#金剛砂(sha)。


  ③. 拋(pao)光膏(gao):磨光用黃(huang)拋(pao)光膏(gao),拋(pao)光用綠拋(pao)光膏(gao),拉白光亮(liang)用白拋(pao)光膏(gao)+維也納石(shi)灰。


  ④. 拋磨溫(wen)度:不宜過高,以免使不銹(xiu)鋼金相(xiang)結構改變(bian)。


2. 拉(la)毛消(xiao)光(guang)


 可用砂(sha)輪、皮帶車、噴砂(sha)、鋼絲拋盤及專用拉(la)絲機進行(xing)拉(la)毛。按不(bu)同要求(qiu)進行(xing)消光(guang)處理(li)。


3. 化學除油(you)


磷酸三鈉(Na3 PO4·12H2O)  20~30g/L   、海鷗洗滌劑  2~3mL/L


碳酸鈉(Na2CO3)  10~15g/L 、溫度   90~100℃  、時間  10~30min


4. 水(shui)清洗,并(bing)上掛具


5. 電化學除油


氫氧化(hua)鈉(NaOH)  10~15g/L  、 平平加(勻染劑)0.5~1.0g/L  、溫度(du)  80~90℃  、時間  1~5min


磷酸三鈉(Na3PO4·12H2O)  20~25g/L  、陰極電流密度(DK)  1~3A/d㎡  、碳酸鈉(Na2CO3)  10~15g/L


6. 水清洗


7. 電解(jie)活化(hua)腐蝕


硫酸(H2SO4)  10~20g/L 、時間  10~30s 、溫度  15~40℃ 、陰極材料  不銹鋼  、陽極電流密度  1~1.5A/d㎡


8. 水清洗


9. 鍍鉻


鉻酐(CrO3)  250~280g/L  、陰極電流密度  25~35A/d㎡  、硫酸(H2SO4)  2.8~3.0g/L  、時間  1~3min  、溫度  45~50℃


10. 回收、清洗


11. 卸(xie)掛具,并上烘(hong)架烘(hong)干(gan)


   烘(hong)架要求易插(cha)易取,互不接(jie)觸,并經防銹處理(li)。(烘(hong)干(gan)溫度(du)  90~100℃  、烘(hong)干(gan)時間(jian)   10~15min)


12. 絲網漏(lou)印


 ①. 印刷油墨。


  自干型耐腐蝕絲網印(yin)料。由(you)無錫化工(gong)研究設計院研制生(sheng)產,具備易干、耐酸蝕、成膜清晰均勻、脫除方便的特性。


 ②. 稀釋劑


  由該院配套供應,用以調節印料稠度,清(qing)理絲(si)網印版及工(gong)具。


 ③. 絲印設備(bei)


  平面零件可類同普通(tong)油(you)印機,圓柱形筆桿應選用萬能絲印機,工作原理如(ru)圖10-13所示。


圖 13.jpg


13.  上架烘干


 烘干(gan)溫度  70~90℃  、烘干(gan)時(shi)間   30~40min


14. 涂(tu)敷封口,修補絲印(yin)


15. 上烘(hong)(hong)架烘(hong)(hong)干


16. 上掛具


17. 電(dian)解活化腐蝕,退(tui)除未覆蓋(gai)絲印油(you)墨部分的鉻層,并活化基(ji)體表面。


   鹽(yan)酸(d=1.17)  30%  、陽極電流(liu)密度(du)  0.5~2A/d㎡  、十二(er)烷基硫酸鈉  0.1~0.3g/L  、時(shi)間  1~2min  、溫度(du)  室(shi)溫


18. 水清洗


19. 閃鍍高(gao)氯(lv)鎳


  氯化鎳(NiCl2·6H2O)  140~180g/L  、鹽酸(HCl)(d=1.17)  100~120g/L  、陰極移動  16~18次/min


  時間  30~90s  、溫(wen)(wen)度  室(shi)溫(wen)(wen)  、陽極(ji)材料  軋制鎳板,套(tao)袋(dai)  、陰極(ji)電流密(mi)度  3~5A/d㎡


20. 流動水清洗(xi)兩次(ci)以上,防(fang)止(zhi)氯離子大量進入亮銅槽(cao),認真徹底(di)清洗(xi)。


21. 鍍酸(suan)性光亮銅


  為了快速(su)(su)加厚浮雕圖(tu)(tu)案,采用高(gao)濃(nong)度、大(da)電(dian)流快速(su)(su)沉積銅(tong),加速(su)(su)陰極移動。由于(yu)圖(tu)(tu)紋線條粗(cu)(cu)細(xi)疏(shu)密不一,電(dian)鍍時的(de)電(dian)流密度分布不勻(yun),以粗(cu)(cu)密圖(tu)(tu)案近陽板,細(xi)疏(shu)及(ji)無圖(tu)(tu)案處遠離陽極,以防細(xi)疏(shu)圖(tu)(tu)案DK過大(da)燒毛(mao)。


  高酸性銅液成分及(ji)工作條件:


  硫酸銅(CuSO4·5H2O)   200~240g/L  、硫酸(H2SO4)  55~75g/L  、氯離子(Cl-)  50~80mg/L  、溫度  15~38℃


  光亮劑209A   0.5mL/L 、光亮劑209B 0.5mL/L  、光亮劑209C  8mL/L  、陰極電(dian)流密度  1.5~8A/d㎡(按(an)實際受鍍面積(ji)計算)


  陰極移動  25~30次(ci)/min   、時間  銅層厚度達(da)到明顯的浮雕效果即可(10~30min)


22. 水清洗


23. 鍍光亮(liang)鎳


 在普(pu)通亮鎳(nie)槽中進行,作(zuo)為中間層,能使(shi)圖案更絢(xuan)麗(li)光彩,并提高(gao)防(fang)護(hu)性和抗變色性。鍍(du)亮鎳(nie)配方及工作(zuo)條(tiao)件(jian):


  硫酸鎳(NiSO4·7H2O) 280~320g/L  、pH   4~4.8  、氯化鎳(NiCl2·6H2O)  50~60g/L  、溫度  57~62℃


  硼酸(H3BO3)  40~45g/L  、陰極電流密度(DK)  2~8A/d㎡(按實際受鍍面積計算) 、 5#A   0.6~0.8mL/L


  光亮(liang)劑5#B  5~6mL/L  、時間  2~3min  、潤濕劑LB  1~2mL/L  、陰(yin)極(ji)移動  18~22次(ci)/min


24. 水清(qing)洗


25. 先消光鍍鉻底色鍍金


 采(cai)用(yong)(yong)鍍金-鈷-銦合金,鍍層光亮,耐磨性高,延(yan)長浮雕精飾層的使用(yong)(yong)壽命。


鍍金合金溶(rong)液成分及工作條件:


  氰化金鉀[KAu(CN)2]   5~8g/L  、檸檬酸鉀(K3C6H5O7)   50~90g/L  、檸檬酸(H3C6H5O7)   40~50g/L  、硫酸鈷(CoSO4·7H2O)  12~15g/L  


  硫酸銦(InSO4)   1~1.5g/L  、pH   3.5~4.2  、溫度  35~38℃  、時間   30~90s  、陰極電流密度(DK)  0.5~1.0A/d㎡


  陽(yang)(yang)極   99.99%純金(jin)  (陽(yang)(yang)極也可用不溶性(xing)不銹鋼,但要按需補(bu)充金(jin)鹽)  、陰(yin)極移(yi)動  需要,可采用旋轉陰(yin)極,使金(jin)層更加均勻


銀光亮浮(fu)雕(diao)工藝。鍍普通裝(zhuang)飾鉻,溶(rong)液成(cheng)分及工作條件:


  鉻酐(CrO3)  250~280g/L  、陰極電流密度  20~28A/d㎡  、硫酸(H2SO4)  2.5~2.8g/L  、時間  0.5~1.5min  、溫度  45~50℃


26. 回(hui)收金或鉻酸,再用水(shui)清洗


27. 脫除印料(liao)


 弱(ruo)堿溶液成分(fen)及工作(zuo)條件:


 磷酸三鈉(Na3PO4·12H2O)   10~30g/L   、碳酸鈉(Na2CO3)  5~10g/L  、溫度  40~50℃  、時間   以自來水能沖盡印料為止


28. 水(shui)清洗,去離子水(shui)浸洗


29. 上烘架


30. 烘干


  溫度  60~80℃  、 時間  10~20min