有許多理論對應力腐蝕現象進行解釋，現選其中比較常用的三種簡述如下：

1. 活化通路型應(ying)力(li)腐蝕 

    從電化學腐蝕理論中知道，當腐蝕電池是一個大陰極和一個小陽極時，陽極的溶解表現為集中性腐蝕損傷。只要在腐蝕過程中，陽極始終保持處于裂紋的最前沿，裂尖處于活化狀態下而不鈍化，與此同時其他部位（包括裂紋斷口兩側）發生鈍化，則裂紋可以一直向前發展直至斷裂如圖3-6所示。從圖中可以看出，裂紋猶如一個閉塞電池，裂紋內尖端是一個陽極區。裂口內部聚集了一些沉淀物如Fe₃O₄·Fe（OH）₃，將裂紋通道堵塞，而此時H^＋可透過閉塞物質緩慢地向外擴散，內部消耗的H₂O則通過滲透來補充。這樣又將其他活性離子（如Cl）帶入內部，促使內部腐蝕性增強，在應力作用下促使裂紋尖端區域鈍化膜破壞，將陽極進一步活化且更加集中，裂紋就進一步深入發展，直至斷裂。閉塞電池的實質是裂紋內部的電化學發展過程。若裂隙中沉淀物的體積大于破壞金屬的體積很多時，則出現脹裂力，使裂紋尖端應力增大，促使應力腐蝕裂紋的發展。這一理論著重說明了電化學過程的重要性。

2. 應變(bian)產(chan)生活性通道應力腐蝕 

   應(ying)(ying)(ying)變(bian)產生活(huo)性通道應(ying)(ying)(ying)力(li)腐蝕(shi)是指(zhi)鈍(dun)化(hua)(hua)膜(mo)(mo)在應(ying)(ying)(ying)力(li)作用下(xia)(xia)同金屬基體一(yi)起(qi)變(bian)形(xing)時(shi)發生破(po)裂，裂隙處暴露出的(de)金屬成為活(huo)化(hua)(hua)陽極，發生溶(rong)解。在腐蝕(shi)過(guo)(guo)程中，鈍(dun)化(hua)(hua)膜(mo)(mo)破(po)壞的(de)同時(shi)又會(hui)使破(po)裂的(de)鈍(dun)化(hua)(hua)膜(mo)(mo)修(xiu)復，在連(lian)續發生應(ying)(ying)(ying)變(bian)的(de)條件下(xia)(xia)修(xiu)復的(de)鈍(dun)化(hua)(hua)膜(mo)(mo)又遭破(po)壞。此過(guo)(guo)程周而復始不斷(duan)發生，當應(ying)(ying)(ying)力(li)超過(guo)(guo)修(xiu)復后(hou)鈍(dun)化(hua)(hua)膜(mo)(mo)的(de)強度，應(ying)(ying)(ying)力(li)腐蝕(shi)即可發生，直至脆(cui)斷(duan)，如圖3-7所示。該理論著重說明(ming)了應(ying)(ying)(ying)力(li)的(de)重要作用。

3. 氫(qing)脆型(xing)應力腐蝕

  腐蝕(shi)電池是(shi)由小陰(yin)極(ji)(ji)和大陽極(ji)(ji)組成(cheng)，這時大陽極(ji)(ji)發生溶解表現為均(jun)勻(yun)性腐蝕(shi)。小陰(yin)極(ji)(ji)區的陰(yin)極(ji)(ji)過程中，如(ru)果發生析氫(qing)的話，將發生陰(yin)極(ji)(ji)區金屬的集(ji)中性滲氫(qing)，在持(chi)續載荷作用下氫(qing)促(cu)進塑(su)性應(ying)(ying)變而導(dao)致脆(cui)斷，應(ying)(ying)力腐蝕(shi)就會順(shun)利(li)發展(zhan)。隨著(zhu)裂紋(wen)(wen)(wen)的發展(zhan)，裂紋(wen)(wen)(wen)尖端應(ying)(ying)力（裂尖應(ying)(ying)力）、應(ying)(ying)變集(ji)中促(cu)進金屬中氫(qing)往裂紋(wen)(wen)(wen)尖端中聚集(ji)（叫做應(ying)(ying)力誘導(dao)擴散），最終導(dao)致應(ying)(ying)力腐蝕(shi)斷裂。氫(qing)脆(cui)裂紋(wen)(wen)(wen)擴散機理的示(shi)(shi)意(yi)圖(tu)如(ru)圖(tu)3-8所(suo)示(shi)(shi)。