一(yi)、KCA、KCB鍍鉻添加劑


1. 鍍鉻工(gong)藝電流效率的提高


  鍍(du)鉻(ge)工藝(yi)的(de)(de)(de)電(dian)流(liu)效(xiao)(xiao)率(lv)低,一般只(zhi)有(you)10%~13%.特別是(shi)鍍(du)較厚鉻(ge)層的(de)(de)(de)硬鉻(ge)工藝(yi),要(yao)鍍(du)0.05mm 厚的(de)(de)(de)鉻(ge)層,往往需(xu)耗時(shi)100min(假(jia)定電(dian)流(liu)密度(du)(du)為(wei)50A/dm2,電(dian)流(liu)效(xiao)(xiao)率(lv)為(wei)13%).而(er)一般的(de)(de)(de)耐磨鍍(du)硬鉻(ge)的(de)(de)(de)厚度(du)(du)常常都(dou)在0.05mm以上(shang),為(wei)了提(ti)高(gao)生產效(xiao)(xiao)率(lv),縮(suo)短電(dian)鍍(du)時(shi)間(jian),故開(kai)發(fa)鍍(du)鉻(ge)新型(xing)高(gao)效(xiao)(xiao)低成本的(de)(de)(de)添加(jia)(jia)(jia)劑具有(you)十分重要(yao)的(de)(de)(de)意義。但(dan)近年來鍍(du)鉻(ge)添加(jia)(jia)(jia)劑的(de)(de)(de)研究熱點是(shi)稀(xi)土(tu)陽離子(zi)添加(jia)(jia)(jia)劑,電(dian)流(liu)效(xiao)(xiao)率(lv)可提(ti)高(gao)1.3倍,即可達(da)到17.1%,而(er)市面(mian)上(shang)所售為(wei)含(han)(han)稀(xi)土(tu)陽離子(zi)的(de)(de)(de)氟(fu)化物或氟(fu)化配合物作(zuo)為(wei)鍍(du)鉻(ge)添加(jia)(jia)(jia)劑,其價格較高(gao),穩定性(xing)較差,而(er)氟(fu)化物對陽極鉛(qian)的(de)(de)(de)腐(fu)蝕(shi)也(ye)很嚴重,使(shi)用戶望而(er)生畏。即使(shi)使(shi)用鉛(qian)銻(ti)、鉛(qian)銻(ti)錫合金為(wei)陽極,腐(fu)蝕(shi)仍有(you)存在。值得(de)慶幸的(de)(de)(de)是(shi),目前開(kai)發(fa)的(de)(de)(de)有(you)機添加(jia)(jia)(jia)劑,不(bu)含(han)(han)稀(xi)土(tu)添加(jia)(jia)(jia)劑,也(ye)不(bu)含(han)(han)氟(fu)化物,已經面(mian)市多年,在提(ti)高(gao)鍍(du)鉻(ge)電(dian)流(liu)效(xiao)(xiao)率(lv)方面(mian)可以達(da)到20%以上(shang),而(er)且在整平性(xing)和(he)光(guang)亮度(du)(du)上(shang)也(ye)有(you)顯(xian)著的(de)(de)(de)提(ti)高(gao)。


2. 不(bu)銹(xiu)鋼有機添加劑鍍(du)鉻液組(zu)成及工藝(yi)條件見表4-10


表 10.jpg


3. 說明


 ①. KCA添加劑和(he)KCB光(guang)(guang)(guang)(guang)亮(liang)劑均(jun)為國(guo)產有(you)機磺酸類(lei)物(wu),具(ju)有(you)極(ji)強的(de)(de)抗氧(yang)化性,在鉻(ge)酸中不(bu)被氧(yang)化分解。A劑具(ju)有(you)提高(gao)整(zheng)平度、快速沉積鉻(ge)層的(de)(de)作(zuo)用(yong)(yong),B劑具(ju)有(you)提高(gao)光(guang)(guang)(guang)(guang)亮(liang)度和(he)硬度的(de)(de)作(zuo)用(yong)(yong),兩(liang)者相互配合(he)使(shi)用(yong)(yong),可(ke)使(shi)光(guang)(guang)(guang)(guang)亮(liang)度相得益彰的(de)(de)增大。B劑與(yu)其他(ta)類(lei)型鍍(du)(du)鉻(ge)添加劑合(he)用(yong)(yong)也可(ke)提高(gao)鍍(du)(du)鉻(ge)層的(de)(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)亮(liang)度,是(shi)一種廣譜光(guang)(guang)(guang)(guang)亮(liang)劑,但不(bu)可(ke)過量(liang)使(shi)用(yong)(yong),以免增大內(nei)應力,發生脆(cui)性作(zuo)用(yong)(yong)。[這兩(liang)種添加劑和(he)光(guang)(guang)(guang)(guang)亮(liang)劑經常被采用(yong)(yong),與(yu)同種類(lei)型外國(guo)產品相比并不(bu)遜色。不(bu)銹(xiu)鋼直接鍍(du)(du)鉻(ge)時,在施鍍(du)(du)開(kai)始時采用(yong)(yong)電流(liu)階梯式升高(gao),從3A/d㎡2、3.5A/dm、4A/dm.....至額定(ding)電流(liu)密度,每(mei)次(ci)電流(liu)升高(gao)間隔幾(ji)分鐘,以提高(gao)鉻(ge)層的(de)(de)結合(he)力,此時產生氫(qing)氣還原表面(mian)氧(yang)化膜(mo)。


 ②. CWS鍍鉻(ge)添加劑主(zhu)要(yao)組成為酰化烷基磺(huang)酸,由(you)國(guo)外進口,價(jia)格比國(guo)產要(yao)稍高(gao)些,可(ke)(ke)獲得(de)光亮、細致(zhi)的(de)鉻(ge)層,當(dang)電流(liu)密(mi)度(du)在(zai)40A/d㎡,每小時可(ke)(ke)鍍得(de)0.04mm,鉻(ge)層維氏硬度(du)可(ke)(ke)達800HV。



二、XG-A鍍鉻走(zou)位劑


1. 鍍液成(cheng)分及操作條件


 鉻酐(gan)   120~250g/L(Bé12°~23°)


 硫(liu)酸(suan)  0.6~1.2g/L[m(鉻(ge)酐(gan)):m(硫(liu)酸(suan))=200:1]


 三價鉻  0.5~3.0g/L(開缸時)


 XG-A走位劑  1~2g/L(消耗量:每添(tian)加(jia)(jia)1kg鉻酐時補加(jia)(jia)走位劑10g)


 溫(wen)度   32~50℃  、 電流(liu)密度   15~50A/d㎡


2. 經濟(ji)效益


 ①. 可降低(di)鉻酐(gan)(gan)濃(nong)度(du),形狀簡單(dan)的(de)(de)產(chan)(chan)品鉻酐(gan)(gan)取下限,如150g/L,凹凸較(jiao)復(fu)雜的(de)(de)產(chan)(chan)品則(ze)鉻酐(gan)(gan)取上限,如250g/L.而(er)通常的(de)(de)裝飾鉻鍍(du)液(ye)的(de)(de)鉻酐(gan)(gan)高達350g/L,可降低(di)鉻酐(gan)(gan)40%~70%,因而(er)使鍍(du)件和(he)掛具出槽時帶出的(de)(de)鉻酐(gan)(gan)損耗減少,有利于含(han)鉻廢水對六價鉻的(de)(de)處理費用的(de)(de)降低(di)。


 ②. 鍍(du)液可在較低溫度32℃時(shi)工作,在夏季的氣溫下可以對鍍(du)鉻液停止供熱保溫,減少用電費(fei)用,達到節(jie)能的效(xiao)果。


 ③. 提高(gao)電(dian)流效率,使用XG-A走位劑的鍍(du)鉻電(dian)流效率可達18%~25%,而標準鍍(du)鉻的電(dian)流效率為13%.由于電(dian)流效率的提高(gao),可減少鍍(du)鉻時(shi)間1/3,可減少用電(dian)量。


 ④. 覆蓋(gai)能(neng)力高,普(pu)通鍍(du)(du)鉻深(shen)孔能(neng)鍍(du)(du)進(jin)25%~30%,而用XG-A走位劑的深(shen)孔能(neng)鍍(du)(du)進(jin)80%以上,使鍍(du)(du)層厚度的分布(bu)也(ye)較均勻。


3. 常(chang)見故障及解決辦法見表4-11。