不銹鋼管作為油氣開采與運輸過程的重要器件而大量使用，對其進行質量檢測是不銹鋼管正常生產應用的前提。隨著鋼管連軋工藝的發展鋼管，最大生產節奏達到960支／h，在線檢測最高要求速度達到3m／s，與此相對應的漏磁檢測系統的運行速度也相繼提高。其中，對不銹鋼管缺陷進行精確而不遺漏的標記是檢測結果有效性的重要前提，對缺陷的復查和尋找，以及不銹鋼管的后處理工藝安排具有重要作用。所以，在鋼管高速檢測過程中，缺陷標記系統是不可或缺的組成部分。
一、標記系統
假設不銹鋼(gang)管(guan)檢(jian)測最(zui)高(gao)檢(jian)測速度為3m／，缺陷標記(ji)分辨率dpx為20mm，則最(zui)高(gao)標記(ji)頻率f為
fpr=Vmax/dpx=150Hz(6-17)
也即，為(wei)使兩個相隔20mm的缺陷能(neng)夠相互(hu)獨立標(biao)(biao)識(shi)且沒有遺(yi)漏，標(biao)(biao)記系統每秒鐘需標(biao)(biao)記150次，才能(neng)滿足(zu)鋼(gang)管高速(su)漏磁檢測的標(biao)(biao)記要求。
標(biao)記(ji)系統工(gong)作(zuo)(zuo)流(liu)程如(ru)圖(tu)(tu)6-34所(suo)示。缺陷(xian)產生的(de)漏磁(ci)場被磁(ci)敏傳感器(qi)獲取之后轉(zhuan)換為(wei)電(dian)信號(hao)，然(ran)后由A-D采集卡轉(zhuan)換為(wei)數字(zi)信號(hao)，進(jin)入計算機(ji)進(jin)行信號(hao)后處理，輸出(chu)結果與設置的(de)標(biao)準門限(xian)對比，如(ru)果信號(hao)幅(fu)值超過(guo)門限(xian)，則判定為(wei)缺陷(xian)，并將缺陷(xian)信息傳輸給可編程序控(kong)制器(qi)PLC。系統根據標(biao)記(ji)系統與磁(ci)敏傳感器(qi)之間的(de)距離(li)以(yi)及鋼(gang)管運行速度，經過(guo)準確延時之后輸出(chu)高電(dian)平(ping)控(kong)制電(dian)磁(ci)閥工(gong)作(zuo)(zuo)，噴嘴持續(xu)噴出(chu)一段時間涂料之后停止，并等(deng)待下一次(ci)缺陷(xian)信號(hao)到來，噴壺標(biao)識器(qi)如(ru)圖(tu)(tu)6-35所(suo)示。
為了控制(zhi)缺(que)陷(xian)標(biao)(biao)識精度，標(biao)(biao)記系統(tong)(tong)需要精確控制(zhi)漏(lou)磁(ci)檢測探頭與噴嘴之間的距離，并根據(ju)運行(xing)速(su)度進行(xing)延時設置。對(dui)(dui)于(yu)漏(lou)磁(ci)陣列探頭檢測系統(tong)(tong)，標(biao)(biao)記系統(tong)(tong)在(zai)確定探頭與噴嘴之間的距離時，需要精確到獨(du)立的傳感(gan)器單元，尤其(qi)是針對(dui)(dui)條(tiao)(tiao)狀探頭。一(yi)般(ban)來(lai)說，條(tiao)(tiao)狀探頭整(zheng)體(ti)(ti)長(chang)度大于(yu)100mm，如果將其(qi)看成一(yi)個整(zheng)體(ti)(ti)，則標(biao)(biao)識誤差將大于(yu)100mm。
一個噴壺的(de)響應(ying)時間較長(chang)，無法滿足標識系統的(de)噴標頻率要求(qiu)。為此，一般采(cai)取陣列噴壺對缺陷進(jin)行(xing)標記，主(zhu)要有兩種布(bu)(bu)(bu)置(zhi)方案：其(qi)一，噴槍(qiang)沿鋼管軸向陣列布(bu)(bu)(bu)置(zhi)；其(qi)二，噴槍(qiang)沿鋼管周向陣列布(bu)(bu)(bu)置(zhi)。
陣列標(biao)記(ji)系統相(xiang)對于(yu)單噴嘴標(biao)記(ji)系統具有更(geng)高的標(biao)記(ji)速度和(he)精度，具有以下特點：
1）將缺(que)陷(xian)信(xin)息分配給不(bu)同(tong)噴嘴進行工作(zuo)，提高標識速度(du)。
2）將連續缺(que)陷信息分點標(biao)記，可(ke)以(yi)提高分辨率，以(yi)消(xiao)除(chu)整片連續標(biao)記現象。
3）控(kong)制器(qi)接(jie)收到缺陷信息之(zhi)后，將(jiang)控(kong)制空閑的噴嘴進行工作。
4）多(duo)個噴(pen)(pen)嘴(zui)需要循(xun)環(huan)使用，以保證噴(pen)(pen)嘴(zui)通(tong)暢，防(fang)止氣(qi)路阻塞(sai)和噴(pen)(pen)嘴(zui)堵塞(sai)。
5）尋求最佳(jia)標(biao)識控制方案以提(ti)高(gao)標(biao)識速度和精(jing)度，并能(neng)對設備進行(xing)良好維(wei)護。
圖6-36所(suo)示為多(duo)噴(pen)(pen)嘴(zui)聯(lian)合(he)標記系統，主要由(you)多(duo)噴(pen)(pen)嘴(zui)組(zu)(zu)合(he)、涂(tu)(tu)(tu)料(liao)(liao)壺(hu)、升降框架、控(kong)制臺(tai)和升降電動機構成(cheng)。多(duo)噴(pen)(pen)嘴(zui)系統采用8個(ge)噴(pen)(pen)嘴(zui)雙(shuang)排陣列組(zu)(zu)合(he)方式，由(you)8個(ge)電磁閥(fa)獨立控(kong)制和8個(ge)涂(tu)(tu)(tu)料(liao)(liao)壺(hu)單獨供涂(tu)(tu)(tu)料(liao)(liao)。由(you)于(yu)不(bu)(bu)同(tong)管(guan)徑不(bu)(bu)銹鋼管(guan)中心(xin)高不(bu)(bu)同(tong)，從而造成(cheng)噴(pen)(pen)嘴(zui)與(yu)鋼管(guan)之間的(de)距離(li)(li)發(fa)生改(gai)變(bian)。一(yi)般距離(li)(li)越(yue)(yue)小(xiao)，涂(tu)(tu)(tu)料(liao)(liao)行程(cheng)越(yue)(yue)小(xiao)，標識(shi)斑點越(yue)(yue)小(xiao)，速(su)度越(yue)(yue)快，因(yin)此，噴(pen)(pen)嘴(zui)中心(xin)高需根據鋼管(guan)規格進行調(diao)整。
二、噴槍結(jie)構
噴槍(qiang)作(zuo)為標記(ji)系統的(de)執行機構，其結(jie)構很大程(cheng)度上決定了標記(ji)系統的(de)性能。考(kao)慮(lv)到標記(ji)工作(zuo)現場特殊環境，如高溫、強振動、多灰(hui)塵(chen)等，噴槍(qiang)槍(qiang)體做(zuo)成如圖(tu)6-37所示的(de)結(jie)構，它可以用于檢測過程(cheng)中(zhong)棒材(cai)、管(guan)材(cai)、線(xian)材(cai)、板材(cai)等金(jin)屬件(jian)的(de)快速缺陷(xian)標記(ji)。
圖6-37所示的噴(pen)槍具(ju)有如下(xia)特點：
1）噴槍最小口徑(jing)為0.3mm，最小噴涂量可達3g／min，可以較(jiao)大(da)程度(du)地(di)節約涂料。
2）使用圓形(xing)空(kong)氣帽可噴出圓形(xing)斑(ban)點，其形(xing)狀(zhuang)正(zheng)好(hao)適用于(yu)缺陷標記。
3）帶有拉栓(shuan)，維護清(qing)洗(xi)方(fang)便(bian)，配有物料循環功能(neng)，可以(yi)防止噴槍堵(du)塞。
4）響(xiang)應速(su)度快，只需40ms便可實現(xian)啟閉，這是實現(xian)高速(su)標記的關鍵。
三、噴標控制
缺(que)陷(xian)(xian)標(biao)(biao)記(ji)(ji)是(shi)不銹鋼(gang)管檢測(ce)結果(guo)的直接體(ti)現，高精度(du)和高分(fen)辨率是(shi)標(biao)(biao)記(ji)(ji)系統(tong)的重要性能指標(biao)(biao)。高精度(du)體(ti)現在(zai)標(biao)(biao)記(ji)(ji)位置與缺(que)陷(xian)(xian)位置形成精確的空間對應；高分(fen)辨率體(ti)現為缺(que)陷(xian)(xian)標(biao)(biao)記(ji)(ji)斑點有(you)效而且較小，避免(mian)大片(pian)連續標(biao)(biao)記(ji)(ji)造成缺(que)陷(xian)(xian)難(nan)以(yi)辨識(shi)；而且兩(liang)者都必(bi)須建立在(zai)無漏標(biao)(biao)記(ji)(ji)的基(ji)礎之上。高速標(biao)(biao)記(ji)(ji)系統(tong)的實(shi)現基(ji)礎為高效的控制方(fang)案(an)和策略，根(gen)據缺(que)陷(xian)(xian)信號進行合理(li)(li)有(you)效的標(biao)(biao)記(ji)(ji)，可使(shi)后處理(li)(li)工藝更加方(fang)便快捷，以(yi)及時反饋(kui)鋼(gang)管生產工藝中(zhong)的缺(que)陷(xian)(xian)。
1. 控制方(fang)法
標(biao)記(ji)(ji)系統(tong)將涂(tu)料(liao)(liao)從料(liao)(liao)筒運送到涂(tu)料(liao)(liao)壺，然后經噴嘴標(biao)記(ji)(ji)到鋼管上，其氣路工作原理如圖6-38所示。
從圖6-38中可(ke)以(yi)看出，噴(pen)(pen)嘴與(yu)磁敏傳感器之(zhi)間(jian)存在(zai)一定的空(kong)間(jian)距離，即(ji)噴(pen)(pen)嘴在(zai)漏磁檢測探(tan)頭之(zhi)后。實際(ji)工(gong)作過程中，要求(qiu)標(biao)(biao)記(ji)斑(ban)(ban)(ban)點與(yu)缺(que)陷(xian)(xian)位置對(dui)應(ying)，并且斑(ban)(ban)(ban)點分辨(bian)率越高越好，以(yi)確(que)定缺(que)陷(xian)(xian)的數量。由于兩(liang)者(zhe)存在(zai)一定空(kong)間(jian)錯位，缺(que)陷(xian)(xian)信號被處理和判斷后，不能立即(ji)噴(pen)(pen)標(biao)(biao)，必須延時一段時間(jian)，以(yi)保證缺(que)陷(xian)(xian)位置與(yu)標(biao)(biao)記(ji)斑(ban)(ban)(ban)點對(dui)應(ying)。為(wei)保證標(biao)(biao)記(ji)斑(ban)(ban)(ban)點具有可(ke)視性，涂料噴(pen)(pen)灑必須持(chi)續一段時間(jian)。而為(wei)了(le)讓缺(que)陷(xian)(xian)與(yu)缺(que)陷(xian)(xian)之(zhi)間(jian)具有可(ke)分辨(bian)性，涂料噴(pen)(pen)灑時間(jian)又不能過長(chang)，標(biao)(biao)記(ji)系統控制方案(an)布(bu)局如圖6-39所示(shi)。
標(biao)記控(kong)制(zhi)(zhi)信(xin)息依次(ci)經(jing)過(guo)：檢(jian)測(ce)探頭、前置(zhi)放大器、采(cai)集(ji)卡、計(ji)算(suan)機(ji)、控(kong)制(zhi)(zhi)器、電(dian)磁閥和(he)噴頭。檢(jian)測(ce)探頭將漏磁場量(liang)(liang)轉換(huan)為模擬量(liang)(liang)，并(bing)經(jing)A-D采(cai)集(ji)卡轉換(huan)為數(shu)字量(liang)(liang)，通(tong)過(guo)USB 總(zong)線輸(shu)(shu)入計(ji)算(suan)機(ji)，在(zai)計(ji)算(suan)機(ji)內進行相應計(ji)算(suan)和(he)判斷，如果信(xin)號超過(guo)報警門(men)限，則輸(shu)(shu)出缺陷(xian)脈(mo)沖信(xin)號，通(tong)過(guo)以太網傳輸(shu)(shu)到控(kong)制(zhi)(zhi)器進行處理。經(jing)控(kong)制(zhi)(zhi)器內部控(kong)制(zhi)(zhi)指令延(yan)時，輸(shu)(shu)出控(kong)制(zhi)(zhi)高電(dian)平(ping)并(bing)延(yan)時一(yi)段時間，控(kong)制(zhi)(zhi)電(dian)磁閥持續工作，使噴嘴噴灑涂料(liao)至鋼管表面，并(bing)與缺陷(xian)位(wei)置(zhi)相對應。
標記過(guo)程中，被(bei)檢測鋼管直線前進速度(du)為vn，探頭中心與噴嘴(zui)之間的(de)距離為Lpr，則缺陷從探頭處運(yun)動到噴嘴(zui)位置的(de)時間。為使標記斑點與缺(que)陷(xian)(xian)位置盡量(liang)重合，從漏(lou)磁場處(chu)獲取信(xin)(xin)號開始到涂(tu)(tu)料噴灑至(zhi)鋼管(guan)表(biao)面(mian)為止，該信(xin)(xin)號傳輸(shu)時(shi)(shi)(shi)間(jian)(jian)應該與缺(que)陷(xian)(xian)運動(dong)時(shi)(shi)(shi)間(jian)(jian)t相等，其包括：漏(lou)磁信(xin)(xin)號從鋼管(guan)缺(que)陷(xian)(xian)處(chu)傳輸(shu)至(zhi)采集(ji)卡(ka)(ka)的(de)時(shi)(shi)(shi)間(jian)(jian)t1，信(xin)(xin)號從采集(ji)卡(ka)(ka)通過(guo)(guo)USB總線傳輸(shu)到計算(suan)機的(de)時(shi)(shi)(shi)間(jian)(jian)t2，計算(suan)機內(nei)信(xin)(xin)號處(chu)理過(guo)(guo)程時(shi)(shi)(shi)間(jian)(jian)，缺(que)陷(xian)(xian)信(xin)(xin)號經(jing)以(yi)太(tai)網進入可(ke)編程序控制器的(de)時(shi)(shi)(shi)間(jian)(jian)t4，控制器延時(shi)(shi)(shi)時(shi)(shi)(shi)間(jian)(jian)ts，控制器輸(shu)出信(xin)(xin)號至(zhi)電(dian)磁閥的(de)時(shi)(shi)(shi)間(jian)(jian)t6，電(dian)磁動(dong)作(zuo)時(shi)(shi)(shi)間(jian)(jian)t，以(yi)及涂(tu)(tu)料從噴嘴(zui)噴灑到鋼管(guan)表(biao)面(mian)的(de)時(shi)(shi)(shi)間(jian)(jian)t8，并滿足(zu)以(yi)下(xia)關系式
t =t1+t2 +t3+t4+ts+t6+t7+t8 (6-19)
式（6-19）表(biao)明，缺陷產生的(de)(de)(de)漏(lou)磁信(xin)號(hao)(hao)從(cong)缺陷處被采集到至最后涂(tu)料噴(pen)灑(sa)到鋼(gang)(gang)(gang)管(guan)表(biao)面(mian)經(jing)歷了一個復雜的(de)(de)(de)信(xin)息傳(chuan)(chuan)遞過程。其(qi)中，電信(xin)號(hao)(hao)傳(chuan)(chuan)輸時(shi)間(jian)(jian)、USB總(zong)線(xian)傳(chuan)(chuan)輸時(shi)間(jian)(jian)以(yi)及(ji)(ji)以(yi)太網傳(chuan)(chuan)輸時(shi)間(jian)(jian)可忽(hu)略不計，信(xin)號(hao)(hao)處理(li)時(shi)間(jian)(jian)與(yu)評判算(suan)法(fa)、數據量和(he)計算(suan)機(ji)配置有(you)關，一般(ban)用時(shi)也(ye)較(jiao)短。但從(cong)電磁閥開(kai)始(shi)動作(zuo)到涂(tu)料噴(pen)灑(sa)到鋼(gang)(gang)(gang)管(guan)表(biao)面(mian)的(de)(de)(de)時(shi)間(jian)(jian)較(jiao)長(chang)，這主(zhu)要(yao)(yao)與(yu)噴(pen)嘴(zui)(zui)噴(pen)腔內氣壓大(da)小以(yi)及(ji)(ji)噴(pen)嘴(zui)(zui)與(yu)鋼(gang)(gang)(gang)管(guan)表(biao)面(mian)之(zhi)間(jian)(jian)的(de)(de)(de)距(ju)離有(you)關。一般(ban)情況下，噴(pen)嘴(zui)(zui)與(yu)鋼(gang)(gang)(gang)管(guan)表(biao)面(mian)距(ju)離越(yue)近，涂(tu)料噴(pen)灑(sa)時(shi)間(jian)(jian)越(yue)短，斑點就越(yue)小。因(yin)此，噴(pen)嘴(zui)(zui)中心高度(du)必須可調(diao)，當更換鋼(gang)(gang)(gang)管(guan)規格時(shi)，通過調(diao)整(zheng)(zheng)噴(pen)嘴(zui)(zui)與(yu)鋼(gang)(gang)(gang)管(guan)表(biao)面(mian)之(zhi)間(jian)(jian)的(de)(de)(de)距(ju)離來實現最好的(de)(de)(de)標記效果。上(shang)述所有(you)時(shi)間(jian)(jian)中，除了控制器延時(shi)時(shi)間(jian)(jian)ts，其(qi)余時(shi)間(jian)(jian)基(ji)本為定值，在調(diao)整(zheng)(zheng)鋼(gang)(gang)(gang)管(guan)運行速度(du)時(shi)，延時(shi)參數t，需要(yao)(yao)根據新的(de)(de)(de)檢測速度(du)進行調(diao)整(zheng)(zheng)。
如圖6-40所示，可將整個標(biao)(biao)記過程分為三個階(jie)段：第一階(jie)段，磁敏元件拾取(qu)到缺(que)(que)陷(xian)漏磁場(chang)，并(bing)將其轉換為電信號(hao)；第二階(jie)段，控(kong)制器獲取(qu)缺(que)(que)陷(xian)標(biao)(biao)記信號(hao)，并(bing)運(yun)行延(yan)時(shi)指令；第三個階(jie)段，延(yan)時(shi)結束，控(kong)制器輸出控(kong)制指令給(gei)電磁閥執行標(biao)(biao)記動作，噴嘴噴灑涂料(liao)。
2. 控制(zhi)策(ce)略
單缺(que)(que)(que)陷單噴嘴模型控制器輸(shu)入參(can)數(shu)包括：圖6-40 缺(que)(que)(que)陷標(biao)記(ji)(ji)延時(shi)(shi)工作(zuo)原理缺(que)(que)(que)陷脈(mo)沖(chong)信(xin)號、標(biao)記(ji)(ji)開(kai)始延時(shi)(shi)時(shi)(shi)間t和(he)標(biao)記(ji)(ji)持續延時(shi)(shi)時(shi)(shi)間T，輸(shu)出(chu)參(can)數(shu)為標(biao)識輸(shu)出(chu)。控制器采用周期上升沿獲取(qu)法，定期獲取(qu)缺(que)(que)(que)陷信(xin)號，然后根據設置(zhi)的(de)兩個(ge)延時(shi)(shi)參(can)數(shu)進行延時(shi)(shi)并輸(shu)出(chu)給電磁閥，內(nei)部(bu)工作(zuo)時(shi)(shi)序如圖6-41所(suo)示。
當不(bu)銹鋼管上出(chu)(chu)現(xian)連續(xu)缺陷(xian)(xian)時(shi)，會出(chu)(chu)現(xian)以下情況(kuang)：前一個缺陷(xian)(xian)還未開始(shi)標(biao)記(ji)或者還未標(biao)記(ji)完成，又出(chu)(chu)現(xian)新(xin)的(de)缺陷(xian)(xian)，則會產生(sheng)新(xin)的(de)缺陷(xian)(xian)被遺失標(biao)記(ji)的(de)狀況(kuang)。所以，為(wei)達(da)到所有缺陷(xian)(xian)都(dou)能(neng)準確(que)標(biao)識而不(bu)出(chu)(chu)現(xian)遺漏，需要設(she)置多個參數來儲(chu)存缺陷(xian)(xian)信息(xi)，并按照先(xian)進(jin)先(xian)出(chu)(chu)的(de)原則進(jin)行(xing)標(biao)記(ji)。為(wei)此(ci)，設(she)置N個定時(shi)器，每個定時(shi)器輸出(chu)(chu)為(wei)Out，多個電磁(ci)閥工作時(shi)序如圖6-42所示。
整個定時器系(xi)統(tong)遵循以下規(gui)則：
1）如果定時(shi)器(qi)i沒有工作，則由i定時(shi)器(qi)執行(xing)延時(shi)指令。
2）如(ru)果定時器i正在執(zhi)行延時指令，則由定時器i＋1進行延時。
3）系(xi)統輸出為所有定(ding)時器(qi)輸出的疊加(Out=Outl +Out2 +··+OutN)。
根據上(shang)述設定(ding)原則，如(ru)果上(shang)一個缺陷(xian)被捕獲但還未輸出(chu)(chu)，緊接著又出(chu)(chu)現(xian)一個缺陷(xian)脈沖，系統(tong)將對缺陷(xian)信號(hao)進行保持。從而當出(chu)(chu)現(xian)連續缺陷(xian)時，系統(tong)便會(hui)全(quan)部捕捉(zhuo)，而不會(hui)遺漏。其執(zhi)行流程和結果如(ru)圖6-43所示(shi)。
在如(ru)圖6-43所(suo)示過程中，一個標記(ji)(ji)周期內連(lian)續出現三(san)個缺陷，分別(bie)由三(san)個定時器進(jin)行上升沿捕獲，然(ran)后分別(bie)延(yan)時，共同(tong)(tong)輸(shu)出，因此三(san)個連(lian)續缺陷點的(de)(de)標記(ji)(ji)效果為(wei)一條連(lian)續的(de)(de)標記(ji)(ji)線，而不(bu)會出現遺(yi)漏標記(ji)(ji)的(de)(de)情況。然(ran)而，不(bu)同(tong)(tong)位置的(de)(de)缺陷產生了(le)(le)一條連(lian)續標記(ji)(ji)線，雖然(ran)沒有出現遺(yi)漏，但是(shi)標記(ji)(ji)分辨率降低了(le)(le)，遺(yi)失了(le)(le)精(jing)(jing)確(que)的(de)(de)對應(ying)關系。為(wei)提高標記(ji)(ji)精(jing)(jing)確(que)度，將條狀探頭內部(bu)檢測元件(jian)獨立分類，分別(bie)設置不(bu)同(tong)(tong)的(de)(de)延(yan)時周期，并采用多噴嘴進(jin)行標記(ji)(ji)，多噴嘴標記(ji)(ji)控(kong)制模型(xing)如(ru)圖6-44所(suo)示。
多噴嘴(zui)標記模型是一個多輸(shu)入(ru)多輸(shu)出(chu)的控(kong)制模型，其輸(shu)出(chu)主要為(wei)8個噴嘴(zui)，而其輸(shu)入(ru)主要有如(ru)下(xia)三類：
1）缺(que)陷(xian)(xian)脈沖：不同檢測(ce)元件發(fa)出(chu)(chu)的缺(que)陷(xian)(xian)脈沖，同一檢測(ce)元件不同時刻發(fa)出(chu)(chu)的缺(que)陷(xian)(xian)脈沖。
2）標記開始延時：由于(yu)不同位置檢測元件與噴嘴(zui)之間的距離不同，因而延時時間不同。
3）標(biao)記持(chi)續延時(shi)：所(suo)有噴嘴(zui)采用相同的標(biao)記持(chi)續延時(shi)時(shi)間，從而產生相同大小的斑點。
不(bu)同(tong)(tong)檢測元件對應(ying)不(bu)同(tong)(tong)的延時器，并產生不(bu)同(tong)(tong)的控制(zhi)指令去驅動8個噴嘴。整個控制(zhi)過程(cheng)遵循以下原(yuan)則：
1）噴(pen)(pen)嘴(zui)循環使(shi)用(yong)(yong)，上一次控(kong)制噴(pen)(pen)嘴(zui)i進行標(biao)記，下次將(jiang)控(kong)制噴(pen)(pen)嘴(zui)i＋1工作(zuo)；如果是第(di)8號噴(pen)(pen)嘴(zui)正在工作(zuo)，則下一個由第(di)1號噴(pen)(pen)嘴(zui)工作(zuo)。保(bao)證每個噴(pen)(pen)嘴(zui)循環使(shi)用(yong)(yong)，防止油(you)路(lu)堵塞(sai)。
2）每個檢測元件獨(du)立設置(zhi)N個定時器，并保存相同(tong)的標記開始(shi)延時參數。
3）由(you)于噴嘴(zui)分兩排，如果正在指定后排噴嘴(zui)工作，則后排噴嘴(zui)自(zi)動(dong)延長(chang)相(xiang)應(ying)時(shi)間再(zai)進(jin)行標(biao)記。
3. 標記誤差
在不銹(xiu)鋼管(guan)漏磁(ci)檢測中，通常施加周向局部磁(ci)化激發縱(zong)向缺陷漏磁(ci)場。為(wei)實(shi)現鋼管(guan)全覆蓋檢測，探頭與(yu)鋼管(guan)之間往往通過形成(cheng)(cheng)螺旋(xuan)掃查(cha)方式完(wan)成(cheng)(cheng)全覆蓋檢測。同樣，噴嘴在鋼管(guan)表(biao)面形成(cheng)(cheng)的軌跡也為(wei)螺旋(xuan)線(xian)。
假設不銹鋼管外(wai)徑為d1，掃查螺(luo)距(ju)為P，檢測(ce)探頭為雙(shuang)探頭，探頭有(you)效檢測(ce)長度為l，標記系統(tong)為單標記系統(tong)，探頭中心與標記系統(tong)軸向距(ju)離為Lpr，系統(tong)理論標記誤差為leror。探頭及標記器布置如圖6-45所示。
將(jiang)不(bu)銹鋼管沿軸線展開，得(de)到(dao)探頭(tou)掃查平(ping)面圖(tu)（圖(tu)6-46），并獲(huo)得(de)不(bu)同情況(kuang)下的標記(ji)誤差(cha)leror，見表6-5。
通過表(biao)6-5可(ke)以看出，標記系統(tong)的(de)確存在(zai)理論標記誤(wu)差(cha)(cha)。提(ti)高(gao)標記精度的(de)方法主要(yao)有兩(liang)種(zhong)，一種(zhong)方法是(shi)增加(jia)標記器數量，另一種(zhong)方法是(shi)提(ti)高(gao)條狀探(tan)(tan)頭內部(bu)傳感元件的(de)分(fen)辨率，按照探(tan)(tan)頭內部(bu)檢測(ce)元件的(de)空(kong)間(jian)位置采用獨立的(de)延時(shi)參數來(lai)降低標記誤(wu)差(cha)(cha)。如果將(jiang)(jiang)噴(pen)壺(hu)沿著圓周均(jun)勻布置N1個噴(pen)嘴，并(bing)且將(jiang)(jiang)條狀探(tan)(tan)頭內部(bu)檢測(ce)元件分(fen)為(wei)2等份，則相應的(de)標記誤(wu)差(cha)(cha)最(zui)大值(zhi)為(wei)： V'emor=lerror/N1N2(6-21)
